XF 16-55 mm f/2,8 R LM WR od FUJIFILM je univerzální objektiv se standardním zoomem určený pro bezzrcadlovky FUJIFILM X-Mount formátu APS-C, nabízí ekvivalent 24-84 mm, širokoúhlý až portrétní rozsah. Tento objektiv, který se vyznačuje svou konstantní maximální světelností f/2,8 je skvělý v obtížných světelných podmínkách a nabízí pozoruhodnou kontrolu nad…
XF 16-55 mm f/2,8 R LM WR od FUJIFILM je univerzální objektiv se standardním zoomem určený pro bezzrcadlovky FUJIFILM X-Mount formátu APS-C, nabízí ekvivalent 24-84 mm, širokoúhlý až portrétní rozsah. Tento objektiv, který se vyznačuje svou konstantní maximální světelností f/2,8 je skvělý v obtížných světelných podmínkách a nabízí pozoruhodnou kontrolu nad hloubkou ostrosti.
Profesionální objektiv se zoomem s velkou světelností musí produkovat ohromující snímky, XF16-55mm k tomu používá devítilamelovou clonu, která pomáhá minimalizovat sférické aberace. Zaoblené lamely (rounded diaphragm opening) jsou navrženy tak, aby vytvořily kruhovější otvor. Vytváří se tak hladší, kulatější a přirozenější bokeh.
Objektiv se skládá ze 17 členů ve 12 skupinách, které zahrnují tři asférické členy pro snížení jakéhokoli zkreslení a sférických aberací. Aby byla zachována ostrost od okraje k okraji v celém rozsahu zoomu, jsou také použity tři ED prvky s mimořádně nízkým rozptylem, které pomáhají kontrolovat chromatické aberace.
Společností FUJIFILM patentovaný vícevrstvý povlak HT-EBC (High Transmittance Electron Beam Coating) na celé ploše čočky pomáhá minimalizovat odlesky a zajišťuje vysokou přenosovou účinnost světla, což zlepšuje výkon objektivu v různých světelných podmínkách.
Tento povlak se vyrábí pomocí vysokonapěťového elektronového paprsku, který vytvoří na povrchu skla velmi tenkou a homogenní vrstvu. Tato vrstva má velmi nízký index lomu, což umožňuje vysokou průchodnost světla a minimalizuje odlesky.
Pro minimalizaci vzniku odlesků a barevných anomálií, které mohou ovlivnit kvalitu fotografií, je použit také Nano GI Coating (Nano Gradient Index Coating). Tento nanotechnologií vyráběný povlak využívá různé indexy lomu světla v různých vrstvách povlaku, což vytváří gradientní indexovou strukturu. Tato struktura umožňuje efektivnější odraz světla na povrchu objektivu a potlačuje odlesky od světla přicházejícího pod diagonálními úhly. Nano GI Coating je také navržen tak, aby minimalizoval barevné anomálie, jako jsou chromatické aberace, které mohou vést k nežádoucímu zkreslení barev.
Systém AF je založen na vysokorychlostním lineárním motoru, který dokáže zaostřit již za 0,02 sekundy (v kombinaci s FUJIFILM X-T4). Poskytuje plynulý, téměř tichý výkon, který je zvláště výhodný pro video a při práci v oblastech citlivých na šum.
Konstrukce objektivu odolná proti prachu a vlhkosti vám umožní ponořit se do fotografování bez ohledu na počasí a umožňuje bezstarostné použití v nepříznivých podmínkách a mrazu až -10°C.
Tento objektiv dokáže dosáhnout dokonalé rovnováhy ostrosti s jemným bokehem. Poskytuje věrné barvy, jaké dosud u objektivů se zoomem nebyly vidět.