K&F 55MM,NANO-X series ultra-low reflection UV filter,Ultra clear lenses, waterproof, anti-scratch

Špičkový UV filtr určený pro fotografy, kteří hledají výjimečnou čistotu obrazu a ochranu svých objektivů.

Funkce

• UV filtr s velmi nízkou odrazivostí: K&F Concept používá u UV filtru s velmi nízkou odrazivostí technologii titanového povlaku, která snižuje povrchovou odrazivost filtru na 0,1 %. To zvyšuje propustnost světla, účinně zabraňuje odleskům a duchům v protisvětle a zajišťuje bezchybnou ostrost.
• Prvotřídní optické sklo: Nízkoreflexní UV filtr řady K&F Concept Nano-X je vyroben z optického skla HD, které zajišťuje ostrý obraz a zachovává věrné barvy fotografií.
• Optimální kvalita obrazu: Ultra-Low Reflection UV Filter má propustnost světla ≥ 99,8 % a odrazivost ≤ 0,1 %, takže je vhodný pro natáčení videa v rozlišení 4K/8K HD a fotografování.
• Doporučené vlastnosti MRC: Řada K&F Concept Nano-X využívá 28vrstvou technologii vícevrstvého povlaku. Díky tomuto zelenému nano povlaku je filtr odolný proti poškrábání, odpuzuje vodu, olej a prach.
• Tenký rámeček bez vinětace: Tenký a lehký hliníkový rámeček UV filtru o tloušťce 3,3 mm snižuje dopad světla a účinně zabraňuje tmavým rohům při širokoúhlém snímání.